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设备主要特点
◎ 采用先进的闭环控制系统，压力稳定无波动
◎ 高精度温控系统
◎ 工艺薄膜均匀性优异
★支持SECS/GEM通讯
主要技术指标
◎ 适用硅片尺寸:4~6"
◎ 工作温度范围:350℃~800℃
◎ 恒温长度:300-1100mm(可定制)
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