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CVD 真空化学气相沉积设备品牌
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沈阳样本
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CVD 真空化学气相沉积设备详情
CVD设备适用于热丝法化学气相沉积金刚石，采用钨丝/钽丝作为加热器，加热分解碳物质，激活化学气相反应，制备金刚石膜。
安装形式 | 立式 |
加热器分布方式 | 圆周分布 |
加热器材质 | 钨丝/钽丝 |
保温材料 | — |
MAX温度 | 3000℃ |
控温精度 | ±1℃ |
均温性 | ±5℃ |
极限真空度 | 5×10-4Pa |
均温区尺寸 | 按客户要求定制 |
控制方式 | 自动/手动 |
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真空技术作为现代工业的核心工艺之一，其相关设备广泛应用于制造、化工、食品、家电、光伏、半导体等国民经济的关键领域。近年来，随着我国经济持续高速发展和产业升级加速，真空设备的应用边界不断拓宽，尤其在光伏
随着光伏产业、电子元件、半导体等行业生产规模的持续扩大，以及我国进一步强化在全球太阳能电池及组件、电子信息等产业的制造基地地位。这一趋势带动了国内各类新材料以及真空设备制造业的发展，并为国内真空炉设备
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