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RTR溅镀
| 主辊直径 | 1,000mm(φ) x600/1500mm(D) | 
| 真空室 | 5 chambers (Unwind、Pre-Heat、 Coating 、Cooling 、Rewind | 
| 有效涂层宽度 | 1,350mm/500mm | 
| 厚度 | 15~250μm | 
| 速度 | 0.5~20M/min | 
| 传输张力 | 2~7Kg @1~3 m/min | 
| 对准 | ≤±2mm@1~3m/min | 
| 溅射材料 | ITO 、Nb₂O5,、SiO2、Si、NbzOX、Cu | 
| 厚度均匀性 | ≤±3% | 
| 靶材利用率 | 70% | 
| 阴极 | Rotatable cathode 4~ 6 sets | 
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