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钙钛矿太阳能电池磁控镀膜设备JCP500品牌
北京泰科诺产地
北京样本
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设备名称:钙钛矿太阳能电池磁控溅射设备(不与手套箱连接)
设备型号:JCP500
镀膜方式:磁控溅射
真空腔室结构:立式圆腔前开门结构 侧置抽气系统
真空腔室尺寸:Φ500mm×H420mm
基片台尺寸:Φ150mm
膜厚不均匀性:≤±5.0%(100mmx100mm范围内)
基片台加热:室温~500℃
基片台水冷:10℃~30℃
溅射靶:φ3英吋靶*3支 兼容DC/MF/RF溅射
晶振膜厚监控仪:国产或进口(可选)
控制方式:PLC + 触摸屏控制
占地面积:L1750mm×W800mm×H1900mm
总功率:≥10kW
1.国内技术**、市场占有率**,设计优化,性能稳定,使用维护成本低。
2.广泛用于钙钛矿太阳能电池及复合功能薄膜材料制备等应用。
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磁控溅射设备的主要用途:1.功能性薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;2.装饰领域:各种全反射膜及半透明膜等;3.微电子领域:在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积
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