参考价格
面议型号
大面积平板镀膜设备JCPF3500品牌
北京泰科诺产地
北京样本
暂无看了大面积平板镀膜设备JCPF3500的用户又看了
虚拟号将在 180 秒后失效
使用微信扫码拨号
设备名称:大面积平板镀膜设备
设备型号:JCPF1600~4500
真空系统:国产或进口分子泵 / 低温泵 + 罗茨泵 + 机械泵高真空系统
极限真空:优于 2.0×10-4Pa
抽速:从大气到 3.3×10-3Pa ≤ 30min 升压率关机 12 小时后真空度≤ 10Pa
工件架尺寸:可根据尺寸定制
工件烘烤温度 :室温~ 300℃,可调可控(PID 控温)
配置:矩形磁控靶、弧源、离子源、偏压可选
系统:全自动控制系统,个性化的 Tech-Coating 控制菜单,安全保护系统
暂无数据!
磁控溅射设备的主要用途:1.功能性薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;2.装饰领域:各种全反射膜及半透明膜等;3.微电子领域:在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积
什么是钙钛矿钙钛矿(perovskite),这个有点拗口的名字取自俄罗斯矿物学家Perovski,作为光伏材料的钙钛矿,实际上和钙、钛、矿三个字都没太大关系,这是一类与钙钛矿(CaTiO3)晶体结构类
热丝CVD采用高温下的低压气相反应,碳氢化合物在高温下发生化学反应,生成膜先驱物,当样品温度合适时,这些膜先驱物在样品表面沉积形成金刚砂膜。低压化学气相沉积形成的膜层厚度及成分较为均匀,膜层致密。CV
CVD(化学气相沉积)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说,它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,
有人曾这样形容磁控溅射技术——就像往平静的湖水里投入了石子溅起水花。磁控溅射真空镀膜技术是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition)的一种,其原理是:用带电粒子加速轰击靶材表面
近年来,新型太阳能电池技术不断发展,钙钛矿电池作为其中的代表之一,一度成为人们关注的热点。钙钛矿电池以其良好的光电转化效果、简单的制备工艺和原材料的充足性,被誉为是下一代光伏电池的主流技术之一。近日,