参考价格
面议型号
高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500品牌
北京泰科诺产地
北京样本
暂无看了高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500的用户又看了
留言询价
虚拟号将在 180 秒后失效
使用微信扫码拨号
设备型号：JCPY500
真空腔室结构：后置抽气系统
真空腔室尺寸：Φ500mm×H450mm带 Load-Lock 功能 支持单片或多片进取样
加热温度 ：室温～ 500℃
基片台尺寸：Φ150mm
膜厚不均匀性 ：Φ100mm 范围内≤ ±5.0%
溅射靶 ：Φ3、Φ4 英寸磁控靶 2-4 支（可选）
工艺气体 ：3 路气体流量控制
控制方式 ： PLC/PC（可选）
占地面积 （主机） ：L1800mm×W800mm×H1845mm
总功率 ：≥ 15kW
大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备
1. 可提供工艺技术支持，及良好售后服务；
2. 设备结构紧凑，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；
3. 单靶溅射 / 多靶依次溅射或共同溅射，兼容 DC/MF/RF 溅射等功能 。
4. 可制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀摸、透明导电膜，如钙钛矿空穴传输层、金属电极以及透明导电层ITO膜层的制备等”；
暂无数据！
电子束蒸发（Electron Beam Evaporation）是物理气相沉积的一种形式，其中待蒸发材料被来自带电钨丝的电子束轰击，当电子束撞击目标材料时，它的能量转化为热能，使目标材料达到蒸发的状态
真空镀膜技术应用行业近年来发展迅速，在各个行业都有广泛的应用。真空镀膜技术用于表面改性和保护，以及提高产品的性能。该行业在设备、材料和工艺方面取得了重大进步，这导致了新涂层技术和应用的发展。在可再生能
本文详细探讨了磁控溅射过程中靶中毒这一关键问题。深入分析了靶中毒的现象、机理及对溅射过程和薄膜质量的严重影响。通过对反应气体、溅射功率、靶材与基底材料等多种因素的综合研究，揭示了靶中毒的成因。靶面金属
蒸镀技术作为一种重要的薄膜制备方法，在电子、光学、太阳能等众多领域得到了广泛应用。选择合适的蒸镀材料和蒸发装置是制备高质量薄膜的关键，直接影响到薄膜的性能、生产成本以及生产效率。本文深入探讨常见蒸镀材
北京泰科诺科技23年真空行业经验，独立研发的热丝法制备金刚石膜方法填补了国内行业空白，产品获得多项国家专利和认证。广泛适用于各大高校、科研院所和生产企业实现教学、研发和中试之目的。目前已初步实现产业化
高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500的工作原理介绍？高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500的使用方法？高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500多少钱一台？高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500使用的注意事项高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500的说明书有吗？高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500的操作规程有吗？高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500的报价含票含运费吗？高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500有现货吗？高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500包安装吗？
手机版：
工商已核实
