参考价格
面议型号
钙钛矿大面积蒸发设备ZDF3200品牌
北京泰科诺产地
北京样本
暂无看了钙钛矿大面积蒸发设备ZDF3200的用户又看了
虚拟号将在 180 秒后失效
使用微信扫码拨号
1. 技术先进、设计优化,性价比高,性能稳定,使用维护成本低。
2.大面积,复合型,批量制备,洁净真空不同功能复合涂层制备,可获得更高电池转换效率。
3.广泛用于钙钛矿太阳能电池及复合功能薄膜材料制备等应用。
设备名称:钙钛矿大面积蒸发设备
设备型号:ZDF3200(单片/多片)
镀膜方式:线源蒸发
真空腔室结构:卧式方箱结构
真空腔室尺寸:L810mm×W700mm×H670mm(镀膜室)
极限真空:优于5.0x10-⁵Pa
基片台尺寸:330mm×420mm
基片温度:80℃以下
膜厚不均匀性:≤±5.0%(330mmx420mm范围内)
蒸发源:高低温线性蒸发源
膜厚监控系统:国产或进口多探头(可选)
控制方式:PLC + 触摸屏控制
占地面积:L3200mm×W2000mm×H1800mm
总功率:≥40KW
暂无数据!
磁控溅射设备的主要用途:1.功能性薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;2.装饰领域:各种全反射膜及半透明膜等;3.微电子领域:在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积
什么是钙钛矿钙钛矿(perovskite),这个有点拗口的名字取自俄罗斯矿物学家Perovski,作为光伏材料的钙钛矿,实际上和钙、钛、矿三个字都没太大关系,这是一类与钙钛矿(CaTiO3)晶体结构类
热丝CVD采用高温下的低压气相反应,碳氢化合物在高温下发生化学反应,生成膜先驱物,当样品温度合适时,这些膜先驱物在样品表面沉积形成金刚砂膜。低压化学气相沉积形成的膜层厚度及成分较为均匀,膜层致密。CV
多晶硅和单晶硅都是半导体材料,是电子工业中非常重要的材料,但它们的制备工艺、物理性质以及应用领域有所不同。晶体是由原子、离子或分子在三维空间中按照一定的周期性排列而形成的固体。这种有序的排列赋予晶体特
原子层沉积(ALD)是一种能够从气相中沉积各种薄膜材料的技术。原子层沉积在新兴的半导体和能源转换技术中显示出巨大的前景。基于连续的自限性反应,ALD在高纵横比结构上提供了出色的保形性,在埃级的厚度控制
全球数字经济发展如火如荼,半导体产业的支撑作用更加突出。物联网、人工智能、汽车电子、智能手机、智能穿戴、云计算、大数据和安防电子等应用领域的强劲需求推动半导体产业规模不断扩大,导致本轮半导体景气周期超