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LD系列单端连续芯片镀膜生产线品牌
辰皓真空产地
湖南样本
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设备特点
成膜好:采用磁控溅射方式，沉积速率快，膜层均匀致密、内应力小;
扩展强:采用模块化设计，根据不同的工艺要求，可以灵活配备镀膜腔体；
适用广:设备可以配备不同的磁控阴极，如圆柱靶、平面靶、圆片靶；
产量大:连续镀膜产线，生产效率高。
应用领域
可用于半导体表面制备各类金属薄膜。
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