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产品介绍：
提高洁净的刻蚀环境，保证刻蚀精度和质量，用于晶圆刻蚀工艺
适用机型：
第三代半导体刻蚀机
产品参数：
基材：CVDSiC(纯度>6N)
特点：纯度高，耐腐蚀，高强度，化学性能稳定
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