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名称 | wafer清洗机 |
工艺段 | Cmp 后清洗 |
型号 | CAC-01 |
对应产品 | 4~8inch |
清洗方式 | 水平流片+PVA brush |
清洗工艺 | RCA 或定制 |
干燥方式 | SRD+N₂ |
传输方式 | Robot 进出 |
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