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等离子化学气相沉积系统-PECVD
ZYE-1200-PE
为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）。它是由500W射频电源、1200℃单温区管式炉、三通道质量流量混气系统和真空系统组成。此款PECVD系统用于生长纳米线、石墨烯或SiC薄膜等
| 型号 | ZYE-1200-PE |
| 工作温度 | **温度：1200℃（使用是必须通入惰性气体以防炉管发生形变）工作温度：1100℃推荐升温速率：≤10℃/min |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 配置炉管尺寸 | Φ50（外）×1200mm（其他可定制） |
| 炉膛尺寸 | |
| 加热区 | 加热长度：220mm 恒温区长度：60-80mm（±3℃） |
| 控制方式 | PID控制和自整定调节功能，智能化30段可编程控制，具有超温及段偶功能K型热电偶，可安装PC控制软件对数据进行实时采集（需另购） |
| 密封系统 | 不锈钢密封法兰（包括316L针阀、真空机械压力表、软管接头） |
| 加热元件 | 北京首钢HRE |
| **功率 | 3kW |
| 供气系统 | 三路高精度MFC 量程0-500sccm（按客户需求定） |
| 射频电源 | 射频功率：5-500W 射频频率：13.56MHz 匹配方式：自动匹配 |
| 真空系统 | 双级旋片真空泵（可定制扩散泵 分子泵等） |
| 额定电压 | 单相AC220V 50/60Hz |
| 外形尺寸 | 1600*600*1200mm（长*宽*高） |
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