首页 > 分析仪器设备 > 半导体行业专用仪器 >
PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备
PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备

参考价格

面议

型号

PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备

品牌

普迪真空

产地

湖北

样本

暂无
武汉普迪真空科技有限公司

高级会员

|

第1年

|

生产商

工商已核实

留言询价
核心参数
产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家
留言询价
×

*留言类型

*留言内容

*联系人

*单位名称

*电子邮箱

*手机号

提交
点击提交代表您同意 《用户服务协议》《隐私协议》

虚拟号将在 180 秒后失效

使用微信扫码拨号

为了保证隐私安全,平台已启用虚拟电话,请放心拨打(暂不支持短信)
×
是否已沟通完成
您还可以选择留下联系电话,等待商家与您联系

需求描述

单位名称

联系人

联系电话

Email

已与商家取得联系
同意发送给商家
产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家

产品摘要

该系列设备为钙钛矿太阳能电池、OLED、锂电池、量子点LED、OPV等产业研发专用设备,设备可工艺制备纳米级氧化物、氮化物、金属等薄膜材料。该溅射系统对接手套箱系统实现全制备过程在无水无氧手套箱环境下进行。PVD与Glove box硬件无缝对接,操控融合一体,实现试验样品在真空手套箱环境中完成旋涂、溅射、测试等工艺流程。

产品介绍

设备特点:

★系统可选择配备低气压溅射技术,制备薄膜致密,对基底损伤小

★J溅射腔体采用SUS304不锈钢材料,腔体内表面包括屏蔽板全部镜面抛光,可以获得洁净的工作环境和良好的真空度

★西门子PLC+触摸屏手自动控制或电脑+PLC全自动控制可选

设备参数:

★腔体尺寸(L×W×Hmm):1500×850×1900/1500×850×1900

★设备尺寸(L×W×Hmm):440×440×450/550×440×450

★基片台:**温度 500℃ 控温误差±1℃

★真空极限:(2E﹣05)Pa

★抽速保压:(8E﹣04)Pa≤20min保压12小时≤5pa     

★托盘均匀性优于±3%~±5%

★溅射靶可选取矩形靶(210mm×210mm/300mm×300mm)和圆形靶溅射尺寸


创新点

暂无数据!

相关方案
暂无相关方案。
相关资料
暂无数据。
用户评论

产品质量

10分

售后服务

10分

易用性

10分

性价比

10分
评论内容
暂无评论!
公司动态
暂无数据!
技术文章
暂无数据!
问商家
  • PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备的工作原理介绍?
  • PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备的使用方法?
  • PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备多少钱一台?
  • PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备使用的注意事项
  • PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备的说明书有吗?
  • PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备的操作规程有吗?
  • PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备的报价含票含运费吗?
  • PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备有现货吗?
  • PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备包安装吗?
PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备信息由武汉普迪真空科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
  • 推荐分类
  • 同类产品
  • 该厂商产品
  • 相关厂商
  • 推荐品牌
采购必读
最新资讯 更多
相关课程 更多
免费
咨询
手机站
二维码