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提纯设备（蒸馏，精馏，升华，区熔）品牌
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化合物晶体材料设备主要应用于：GaAs砷化镓、InP磷化铟、等III-V 族化合物晶体材料的生长、合成、脱氧等工艺，可实现 VGF/VB 工艺联合生长，晶体生长尺寸：2-6英寸。
单质晶体材料设备主要应用于高纯锌、镉、锑、碲、铟、锡、锗、镓等相关半导体材料的提纯、蒸馏、精馏、升华区熔等工艺。
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