误差率:
-分辨率:
100nm重现性:
-分散方式:
-测量时间:
可在数秒内完成 4 至 12 英寸掩膜版|保护膜成像测量范围:
够检测 ≥ 0.1µm 聚苯乙烯乳胶(PSL)等效颗粒(经 NIST 认证)看了掩膜版|保护膜表面颗粒物快速检测系统(PDS)的用户又看了
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Fastmicro 掩膜版|保护膜表面颗粒物快速检测系统(PDS)
为掩膜版、掩膜版保护膜以及基板(衬底)制造工艺,提供高通量的表面颗粒污染检测服务。
该系统对粒径大于 0.1µm 的颗粒具有高灵敏度,是一种高效且提供全方位服务的选择。它能以手动或自动的操作方式,以及较低的维护成本,取代传统的颗粒检测系统。
产品特点:
高通量检测:每小时可检测 400 片晶圆(WPH)
数据输出:根据 ISO 14644-9 标准,在用户界面和 PDF 报告输出 SCP 等级
正反两面检测:单次测量中完成正反两面检测(无需翻转)
检测范围:能够检测 ≥ 0.1µm 聚苯乙烯乳胶(PSL)等效颗粒(经 NIST 认证)
生产过程中的一致性测量
快速: 能在数秒内完成大面积成像
定量: 适用于生产和研发环境中的质量鉴定与监测
操作简便: 不受操作人员影响,自动化,洁净抓取方式
精准: 高分辨率测量(数量、位置、尺寸)
一致性: 每次测量都保持客观、稳定
高通量: 能在工艺时间窗口内得出结果
FM-PDS: 直接检测表面颗粒
该系统可为晶圆制造工艺、下一代化合物半导体以及先进封装应 用,提供高通量的表面颗粒污染检测服务。
该系统对粒径大于 0.1μm 的颗粒具有高灵敏度,是一种高 效且提供全方位服务的选择。
它能以手动或自动的操作方式,以及 较低的维护成本,取代传统的颗粒检测系统。
对于下一代半导体生产应用, PDS 系统具备独特的属性:双面同 时扫描(选配);
静态视场扫描(在图像采集过程中无需移动产品)。
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