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德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X
重新定义精密加工。
全新的量子X是世界上基于双光子灰度光刻(2GL)的工业系统。我们的设备结合了灰度光刻机的**性能和纳米筛网首创的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维和2.5D的衍射和折射显微光学的快速制作。
Quantum X软件实时控制和监控打印作业，并执行自动系统校准。用户-机器交互由专用触摸屏或远程控制界面支持。
关键特性
2.5 d高速精密加工
超光滑的表面和**的形状精度设计自由度，亚微米分辨率完整和超快控制体素尺寸自动化过程，例如校准，
作业执行和监视
广泛的基材树脂组合，通过作业队列触摸屏和远程控制界面，连续执行各种打印作业
TechnicalSpecifications | |
Printing technology： | Two-Photon Grayscale Lithography (2GL) |
Minimum XY feature size： | 160 nm typical; 200 nm specified* |
Finest XY resolution： | 400 nm typical; 500 nm specified* |
Finest vertical steps： | 10 nm， quasi-continuous topographies possible |
Minimum surface roughness Ra： | ≤ 10 nm* |
Scan speed： | ≤ 250 mm/s* |
Area printing speed： | 3 mm2/h typical for diffractive optical elements |
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