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射频离子源清洗及后氧化辅助溅射成膜，适用于车载盖板玻璃和3C产品前盖玻璃沉积AR膜，其中AR膜可为普通SiO2+Nb2O5膜系，也可为硬质SiO2+Si3N4膜系。可选在线AF/AS系统，沉积AR+AF/AS膜，AR+DLC+AF/AS膜，兼容2D/3D基材。同时也适用于3C产品后盖颜色膜（含渐变色膜）、NCVM膜的加工。
| 规格 | |
| 型号 | HCSO-2550V |
| 尺寸 | Ф2700mm*H2350mm |
| 结构 | 三腔室结构（进料室+工艺室+出料室） |
| 性能 | |
| 转速 | 10~100RPM（可变） |
| 进出料室抽速 | 大气压至10Pa≤5min |
| 工艺室抽速 | 3.0×10-3Pa≤15min |
| 极限真空度 | 8.0×10-5Pa (成膜室) |
| 溅射靶材 | Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5,ITO,C ... |
| 主要配置 | |
| 夹具系统 | 中心旋转公转夹具桶 / 挂板机械结构传动 |
| 挂板 | Φ2550x H1200 ~ H1800mm 挂板尺寸可客制化调整 |
| 排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + Polycold |
| 真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计 |
| 镀膜系统 | DC或MF磁控溅射源+ 等离子体源 + 在线AF/AS蒸发源 |
| 充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪 |
| 控制系统 | PC+PLC |
| 应用 | |
| 光学薄膜应用 | UV截止滤光片、AR、硬质AR膜、硬质膜、HR膜、AS/AF等，兼容2D/3D基材 |
| 适用波长 | 300nm~780nm |
| 注：可客制化（数据仅供参考） | |
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