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以氧化铝为原料制备，适用于SiC材料的粗抛光工艺段，PH为碱性，配合无纺布抛光皮使用。
产品说明
o 1.本产品适合单面抛光机，双面抛光机;
o 2.含高锰酸钾碱性氧化铝抛光液;
o 3.如循环使用，请增加对应的过滤:
o 4.去除率高，建议搭配硬度更高的抛光垫。
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