
参考价格
面议型号
PSS Nicomp 380 N3000品牌
美国PSS产地
美国样本
暂无误差率:
/分辨率:
1024个数据通道重现性:
>99%仪器原理:
动态光散射分散方式:
湿法分散测量时间:
1min-10min测量范围:
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Nicomp 380 系列纳米激光粒度仪 
专为复杂体系提供高精度粒度解析方案
基本信息
仪器型号:N3000
工作原理:动态光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)
检测范围: 0.3nm-10.0μm
Nicomp 380 N3000系列纳米激光粒度仪是在原有的经典型号380DLS基础上升级配套而来,采用动态光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理检测分析颗粒的粒度分布,粒径检测范围 0.3nm – 10μm。其配套粒度分析软件复合采用了高斯( Gaussian)单峰算法和拥有**技术的 Nicomp 多峰算法,对于多组分、粒径分布不均匀分散体系的分析具有独特优势。
技术优势
1、APD(LDC)超高灵敏度检测器;
2、多角度检测(multi angle)模块;
3、可搭配不同功率光源;
4、精确度高,接近样品真实值;
5、快速检测,可以追溯历史数据;
6、结果数据以多种形式和格式呈现;
7、符合USP,CP等个多药典要求;
8、无需校准;
9、复合型算法:
(1)高斯(Gaussion)单峰算法与**的Nicomp多峰算法自由切换
10、模块化设计便于维护和升级;
(1)可自动稀释模块**;
(2)搭配多角度检测器;
(3)自动进样系统(选配);
Nicomp多峰分布概念
基线调整自动补偿功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 380系列仪器所独有的两个主要特点,Nicomp创始人Dave Nicole很早就认识到传统的动态光散射理论仅给出高斯模式的粒度分布,这和实践生产生活中不相符,因为现实中很多样本是多分散体系,非单分散体系,而且高斯分布灵敏性不足,分辨率不高,这些特点都制约了纳米粒度仪在实际生产生活中的使用。其开创性的开创了Nicomp多峰分布理论,大大提高了动态光散射理论的分辨率和灵敏性。
图一:Nicomp多分分布数据呈现
如图一:此数据为Nicomp创始人Dave Nicole亲测其血液所得的真实案例。其检测项目为:高密度脂蛋白,低密度脂蛋白和超低密度脂蛋白,由图中可以看出,其血液中三个组分的平均粒径分别显示在7.0nm;29.3nm和217.5nm。由此可见,Nicomp分布模式可以有效反应多组分体系的粒径分布。
Nicomp多峰分布优势
Nicomp系列仪器均可以自由在Gaussian分布模式和Nicomp多峰分布模式中切换。其不仅可以给出传统的DLS系统的结果,更可以通过Nicomp多峰分布模式体现样品的真实情况。依托于Nicomp系列仪器一系列优异的算法和高灵敏性的硬件设计,Nicomp纳米激光粒度仪可以有效区分1:2的多分散体系。
图二:高斯分布及Nicomp多峰分布对比图
如图二:此数据为检测93nm和150nm的标粒按照1:2的比例混合后所测得的数据。左边为高斯分布(Gaussian)结果,右图为Nicomp多峰分布算法结果,两者都为光强径数据。从高斯分布可以得到此混合标粒的平均粒径为110nm-120nm之间,却无法得到实际的多组分体系结构。从右侧的Nicomp多峰分布可以得到结果为双峰,即如数据呈现,体系中的粒子主要分布于98.2nm以及190nm附近,这和实际情况相符。
产品优势
模块化设计
Nicomp 380纳米激光粒度仪是全球率先在应用动态光散射技术上的基础上加入多模块方法的先进粒度仪。随着模块的升级和增加,Nicomp 380的功能体系越来越强大,可以用于各种复杂体系的检测分析。
自动稀释模块
带有**的自动稀释模块消除了人工稀释高浓度样品带来的误差,且不需要人工不断试错来获得合适的测试浓度,这大大缩短了测试者宝贵时间,且无需培训,测试结果重现性好,误差率<1%。
380/HPLD大功率激光器
美国PSS粒度仪公司在开发仪器的过程中,考虑到在各种极端实验测试条件中不同的需求,对不同使用条件和环境配置了不同功率的激光发生器。大功率的激光器可以对极小的粒子也能搜集到足够的散射信号,使得仪器能够得到极小粒子的粒径分布。同样,大功率激光器在测试大粒子的时候同样也很有帮助,比如在检测右旋糖酐大分子时,折射率的特性会引起光散射强度不足。
因为大功率激光器的特性,会弥补散射光强的不足和衰减,测试极其微小的微乳、表面活性剂胶束、蛋白质以及其他大分子不再是一个苛刻的难题。即使没有色谱分离,Nicomp 380纳米粒径分析仪甚至也可以轻易估算出生物高分子的聚集程度。
雪崩二极管 (APD-LDC)超高灵敏度检测器
Nicomp 380纳米粒径分析仪可以装配各种大功率的激光发生器和军品级别的雪崩二极管检测器(相比较传统的光电倍增管有7-10倍放大增益效果)。
APD通常被用于散射发生不明显的体系里来增加信噪比和敏感度,如蛋白质、不溶性胶束、浓度极低的体系以及大分子基团,他们的颗粒的一般浓度为1mg/mL甚至更低,这些颗粒是由对光的散射不敏感的原子组成。APD外置了一个大功率激光发生器模块,在非常短的时间内就能检测分析纳米级颗粒的分布情况。
380/MA多角度检测器
粒径大于100 nm的颗粒在激光的照射下不会朝着各个方向散射。多角度检测角器通过调节检测角度来增加粒子对光的敏感性来测试某些特殊级别粒子。Nicomp 380可以配备范围在10°-175,步长0.7°的多角度测角器,从而使得单一90°检测角测试不了的样品,通过调节角度进行检测,改善对大粒子多分散系粒径分析的精确度。
工作原理
| Nicomp 3000 系列纳米激光粒度仪采用动态光散射原理检测分析样品的粒度分布。基于多普勒电泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering,DELS)检测ZETA电位。其主要用于检测额纳米级别及亚微米级别的体系,粒径检测范围0.3nm-10μm,ZETA电位检测范围为+/-500mV。动态光散射方法(DLS)从传统的光散射理论中分离,关注光强随着时间的波动行为。我们通过光强值的波动得到自相关函数,从而获得衰减时间常量 T,根据公式换算获得粒子的扩散速度 D(Diffusion,扩散系数) | |
| Stokes-Einstein方程∶ D=kT/6rnR D=扩散系数 T=温度 R=粒子半径 η=粘度 k=玻尔兹曼常数 | |
| 粒径检测原理图 | |
| Zeta电位的检测时,在样品插入电极,施加电压,根据样品中电荷的迁移方向确认电荷正负性,根据迁移速率确认Zeta电位**值。Nicomp Z3000设备集成两种Zeta电位算法:频谱分析法和相位分析法。相位分析法在很大程度上解决了频谱分析仪在高盐体系,有机相体系检测中的局限性,PSS也是**将相位分析法应用于Zeta电位检测。 | |
| Zeta电位检测原理图 | 
应用
医药领域:蛋白、病毒、脂质体、乳剂、胶束、纳米晶、疫苗、纳米载药、细胞等
化工领域:墨水,颜料,高分子材料,化工染料,润滑剂,石油化工,量子点等;
半导体领域:光刻胶、CMP slurry、树脂等;
其他:食品,饮料,化妆品等;
仪器参数
| 粒径检测范围 | 0.3 nm - 10 μm | 
| 分析方法 | 动态光散射,Gaussian单峰算法和 Nicomp多峰算法 | 
| pH值范围 | 1-14 | 
| 温度范围 | 0℃-90 ℃(±0.1℃控温精度,无冷凝) | 
| 浓度 | 40%w/v | 
| 激光光源 | 至少35mW激光光源 | 
| 检测角度 | 多角度(10°- 175°,包含90°,步进0.7°) | 
| 检测器 | APD-LDC(雪崩二极光电倍增管,可7-10倍增益放大) | 
| 可用溶剂 | 水相,绝大多数有机相 | 
| 样品池 | 标准4 mL样品池(1cm×4cm,高透光,石英玻璃或塑料) 1mL样品池(玻璃,高透光率微量样品池,微量进样10μL) | 
| 分析软件 | 必配科研级软件 符合 21 CFR Part 11 规范分析软件(可选) | 
| 验证文件 | 有 | 
| 电压 | 220 – 240 VAC,50Hz 或100 – 120 VAC,60Hz | 
| 计算机配置要求 | Windows 7及以上版本windows操作系统,40Gb硬盘,1G内存,光驱,USB接口,串口(COM口) | 
| 外形尺寸 | 56 cm * 41 cm * 24cm | 
| 辅助增益模块 | 自动稀释模块自动进样器(选配) | 
| 重量 | 约26kg(与配置有关) | 
配件
| 大功率激光光源 | PSS使用一系列大功率激光二极管来满足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射,以便从小粒子出货的足够的入射光。15mW, 35mW, 50mW, 100mW — 波长为635nm 的红色二极管。20 mW 50 mW 和 100 mW 波长为 514.4nm的绿色二极管。 | 
| 雪崩光电二极管检测器 (APD Detector) | 提供比普通光电倍增管(PMT)高7-10倍的灵敏度。 | 
| 自动稀释系统模块 | 将初始浓度较高的样本自动稀释至可检测的的浓度,可稀释初始固含量为50%的原始样品,本模块收**保护,其可免除人工稀释样品带来的外界环境的干扰和数据上的误差,此技术被用于批量进样和在线检测的过程中。 | 
| 多角度检测系统模块 | 提供多角度的检测能力。使用高精度的步进电机和针孔光纤技术可对散射光的接收角度进行调整,可为微粒粒径分布提供可高分辨率的多角度检测。对高浓度样品(≤40%)以及大粒子多分散系的粒径提供了提供15至175度之间不同角度上散射光的采集和检测 | 
| 自动滴定模块(选配) | 样品的浓度及PH值是Zeta电位的重要参数,搭配瑞士万通的滴定仪进行检测,真正实现了自动滴定,自动调节PH值,自动检测Zeta电位值。免除外界的干扰和数据上的误差,精确分析出样品Zeta电位的趋势。 | 
| 样品池 | 标准4 mL样品池(1cm×4cm,高透光,石英玻璃或塑料);1mL样品池(玻璃,高透光率微量样品池,进样量10μL)。 | 
| 自动进样器(选配) | 批量自动进样器能实现60个连续样本的分析而无需操作人员的干预。因此它是一个非常好的质量控制工具,能增大样品的处理量。大大节省了宝贵的时间。 | 
应用领域
| 纳米载药 | 纳米药物研究近些年主要着重在药物的传递方向并发展迅猛,纳米粒的大小可以有效减少毒性和副作用。所以,控制这些纳米粒的粒径大小是非常必要的。 
 | 
| 磨料 | 磨料既有天然的也有合成的,用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性。 | 
| 化学机械抛光液(CMP SLURRY) | 化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨料(通常是氧化铝、二氧化硅或氧化铈)两部分组成。抛光过程很大程度上取决于晶片表面构型。晶片的加工误差通常以埃计,对晶片质量至关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有利于化学机械抛光加工过程的顺利进行。 
 | 
| 陶瓷 | 陶瓷在工业中的应用非常广泛,从砖瓦到生物医用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制产品的性能和质量。 
 | 
| 粘土 | 粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂与粘土类似,但粉沙的颗粒比粘土大。粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小于63μm。 
 | 
| 涂料 | 涂料种类繁多,用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能。 | 
| 污染物监测 | 粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用,产品的污染对产品的质量影响巨大。绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范,必须严格遵守和执行,以保证产品满足质量要求。 | 
| 化妆品 | 无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂,它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性能。保湿乳液(一种乳剂)的粒度小于200纳米时才能被皮肤良好吸收,而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗的作用。 
 | 
| 乳剂 | 乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系,通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型,一种是水分散在油中,另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶(水包油型)和黄油(油包水型),加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。 | 
| 乳剂 | 乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系,通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型,一种是水分散在油中,另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶(水包油型)和黄油(油包水型),加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。 | 
| 食品 | 食品的原料(粉末及液体)通常来源于不同的加工厂,不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使制品的质量均一稳定。原料性质的任何波动都会对食品的口味和口感产生影响。用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制(QA/QC)的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品。 | 
| 液体工作介质/油 | 液体工作介质(如:油)越来越昂贵,延长液体介质的寿命是目前普遍关心的问题。机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中(如:油浴润滑介质或液力传递介质),因此需要一种方法来确定介质(油)的更换周期。通过监测工作介质(油)中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿命。 | 
| 墨水 | 随着打印机技术的不断发展,打印机用的墨水变得越来越重要。喷墨打印机墨水的粒度应当控制在一定的尺度以下,且分布均匀,大的颗粒易于堵塞打印头并影响打印质量。墨水是通过研磨方法制得的,可用粒度检测分析仪器设备监测其研磨加工过程,以保证墨水的颗粒粒度分布均匀,避免产生聚集的大颗粒。 | 
| 胶束 | 胶束是表面活性剂在溶液中的浓度超过某一临界值后,其分子或离子自动缔合而成的胶体尺度大小的聚集体质点微粒,这种胶体质点与离子之间处于平衡状态。乳液、色漆、制药粉体、颜料、聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO2纳米管(TNAs)等 | 
光阻法,单μm颗粒技术,高浓度样品
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