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拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430品牌
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设备的应用及特点：
应用
本设备适合156-210mm硅片生产，相比常规竖直插片具有更高的镀膜均匀性，能帮助客户提升高效太阳能电池的效率、集中性、和EL良率。本设备具有行业内**产能，能帮助客户降低固定资产投入和运营成本。
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