SPS 光刻机 POLOS μ

主要特征：

1、写入分辨率低至2 μm

2、可调整的写作领域和具有可互换目标的解决方案

3、与CAD文件或位图图像兼容

4、与g线光刻胶兼容

5、兼容多种基材（硅，玻璃，金属，塑料等）

6、兼容任何样品尺寸达4英寸的晶片

7、相机反馈以进行对准步骤

8、由于没有硬掩模，节省了时间和**

9、将设计直接覆盖在样品上的直观对齐方法

10、占地面积小的桌面

11、非常适合微电子，2D材料，微流体，光电，opty或任何其他2D微加工应用的技术

规格参数：

1、光源曝光：435 nm； 对准：525 nm

2、*小特征尺寸：2至23 μm可调

3、对准分辨率：低至1 μm / cm2

4、**曝光面积：75 x75 mm2

5、基板尺寸：**4”晶圆

6、系统尺寸：W：（36厘米）； D：（36厘米）; 高：（60厘米）

7、多合一PC：Win 10、24英寸全高清

8、SFTprint软件：机器控制，步进重复，自动剂量测试，缝合，对齐

9、SFTconverter：将标准格式（gdsii，dxf，cif，oas）转换为位图图像。 随附的CAD软件