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1、产品信息
货号 | 厚度 | 纯度（%） | 形貌 | 颜色 |
RDB-BC-C | 可定制 | 99.9 | 靶材 | 黑色或深灰色 |
2、产品规格
定制
3、产品概述
石墨（C）靶材通常用于物理蒸发沉积和磁控溅射等薄膜沉积工艺，主要应用于制备碳薄膜、导电薄膜、光学薄膜和其他高科技领域的产品。由于石墨具有良好的导电性和化学稳定性，因此在这些领域中得到广泛应用。例如，石墨靶材可用于制备导电薄膜、光学涂层、太阳能电池等。此外，石墨靶材还可用于制备显示器件、光电器件和其他高端工业产品。
4、产品用途
高纯度：石墨靶材通常具有高纯度，能够满足各种工艺对材料纯度的要求。
工艺适用性：石墨靶材可用于不同的薄膜沉积工艺，包括物理蒸发沉积和磁控溅射等。
应用领域：石墨靶材在导电薄膜、光学涂层、太阳能电池等领域有广泛的应用。
性能优异：石墨靶材具有良好的导电性和化学稳定性，能够满足高端产品对材料性能的要求。
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