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单层二硫化钼大纳米片分散液-MoS2 锂插层法
单层二硫化钼大纳米片分散液-MoS2 锂插层法

参考价格

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型号

单层二硫化钼大纳米片分散液-MoS2 锂插层法

品牌

上海研倍

产地

上海

样本

暂无
上海研倍新材料科技有限公司

白金会员

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第1年

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生产商

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核心参数
  • 品级:

    工业级
  • 外观:

    液体
  • 有效物质含量:

    -
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    -
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产品技术参数:

 

 产品名称 单层二硫化钼大纳米片分散液-MoS2 锂插层法
 货号 RDB-FSY-001
 参 片径:0.2-5 um
 厚度:~lnm
 单层率:> 90wt%
 性质 拓扑绝缘体
 应用 电化学能储,电化学催化,器件,生物学研究等应用
  • 产品规格:

  • 固体含量100mg-1mg/ml-100

    固体含量200mg-1mg/ml-200

    固体含量500mg-1mg/ml-500

    固体含量100mg-1mg/ml-100ml-乙醇

    固体含量200mg-1mg/ml-200m1-乙醇

    固体含量500mg-1mg/ml-500ml-乙醇

    固体含量100mg-1mg/ml-100mI-NMP

    固体含量200mg-1mg/ml-200mI-NMP

    固体含量500mg-1mg/ml-500mI-NMP

    固体含量100mg-1mg/ml-100ml-IPA

    固体含量200mg-1mg/ml-200ml-IPA

    固体含量500mg-1mg/ml-500ml-IPA

    固体含量100mg-1mg/ml-100mI-DMF

    固体含量200mg-1mg/ml-200mI-DMF

    固体含量500mg-1mg/ml-500mI-DMF

    固体含量100mg-1mg/ml-100mI-DMSO

    固体含量200mg-1mg/ml-200mI-DMSO

    固体含量500mg-1mg/ml-500mI-DMSO

单层二硫化钼大纳米片分散液-MoS2 锂插层法照片:

 

 

 

SEM:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

XRD:                                                                     TEM:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

AFM:                                                                    纳米片真空抽滤薄膜::  


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10分

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