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小型粉末PVD包覆系统
小型粉末PVD包覆系统

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辽宁

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沈阳科晶自动化设备有限公司

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产品型号

小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW

产品特点

1、可对粉体材料进行表面包覆:采用磁控溅射,溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚,达到粉体表面均匀包覆

2、设备小巧可在手套箱内使用,可处理样敏感性材料

技术参数

1、输入电压:220 VAC 50/60Hz

2、电源输出:1600 VDC 250 W

3、**电流:150 mA .

4、溅射头:2英寸角度可调节溅射头

5、振动样品台:

样品台振动频率可调节:6-33Hz

样品台直径为50mm

建议样品量: < 500 mg

建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um

石英腔体尺寸:165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H

6、真空度:

①1.0E-2 Torr(采用机械泵),可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶

② 1.0E-5 Torr(采用分子泵),可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶**真空度可达到< 4.0E-6 Torr(分子泵系统抽时间12小时,腔体进行烘烤)

7、CE认证

产品规格

外形尺寸:长460×宽330×高810mm 净重:20Kg

注意事项

警告:

1、溅射头与高压电源相连接,操作时必须佩带防护手套

2、溅射前必须确保靶材,溅射头,基片和样品台清洁,需要用砂纸和乙醇来清洗,Al或是Ni靶每次使用时都必须清洗和处理

注意:粉末样品必须干燥和分散

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产品质量

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售后服务

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