误差率：
-分辨率：
100nm重现性：
-分散方式：
-测量时间：
可在数秒内完成 4 至 12 英寸掩膜版｜保护膜成像测量范围：
够检测 ≥ 0.1µm 聚苯乙烯乳胶（PSL）等效颗粒（经 NIST 认证）看了掩膜版｜保护膜表面颗粒物快速检测系统（PDS）的用户又看了
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Fastmicro 掩膜版｜保护膜表面颗粒物快速检测系统（PDS）
为掩膜版、掩膜版保护膜以及基板（衬底）制造工艺，提供高通量的表面颗粒污染检测服务。
该系统对粒径大于 0.1µm 的颗粒具有高灵敏度，是一种高效且提供全方位服务的选择。它能以手动或自动的操作方式，以及较低的维护成本，取代传统的颗粒检测系统。
产品特点：
高通量检测：每小时可检测 400 片晶圆（WPH）
数据输出：根据 ISO 14644-9 标准，在用户界面和 PDF 报告输出 SCP 等级
正反两面检测：单次测量中完成正反两面检测（无需翻转）
检测范围：能够检测 ≥ 0.1µm 聚苯乙烯乳胶（PSL）等效颗粒（经 NIST 认证）
生产过程中的一致性测量
快速: 能在数秒内完成大面积成像
定量: 适用于生产和研发环境中的质量鉴定与监测
操作简便: 不受操作人员影响，自动化，洁净抓取方式
精准: 高分辨率测量（数量、位置、尺寸）
一致性: 每次测量都保持客观、稳定
高通量: 能在工艺时间窗口内得出结果
FM-PDS: 直接检测表面颗粒
该系统可为晶圆制造工艺、下一代化合物半导体以及先进封装应 用，提供高通量的表面颗粒污染检测服务。
该系统对粒径大于 0.1μm 的颗粒具有高灵敏度，是一种高 效且提供全方位服务的选择。
它能以手动或自动的操作方式，以及 较低的维护成本，取代传统的颗粒检测系统。
对于下一代半导体生产应用， PDS 系统具备独特的属性：双面同 时扫描（选配）；
静态视场扫描（在图像采集过程中无需移动产品）。
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