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桌面式磁控溅射设备—MS-200品牌
致真精密产地
安徽样本
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MS-200磁控溅射设备是一款小型台面式溅射系统，具有高真空、单原子层沉积精度的特点，可以灵活选择阴极向上或向下溅射。设备标配1个2英寸超高真空阴极。满足简单的材料研究需求。
晶圆尺寸 | 4inch向下兼容 |
镀膜均匀性 | 优于±2% |
极限真空 | 1×10-8mbar |
温控 | RT-800℃ |
阴极数量 | 3个2inch靶头共焦溅射 |
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