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科研级磁控溅射设备—MS-300品牌
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MS-300磁控溅射设备具有超高真空、单原子层沉积精度的特点，可以灵活选择阴极向上或向下溅射。设备标配3个2英寸超高真空阴极。满足实验室中科学研究的需求，维护简单，运行稳定。
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