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1500℃烧结气氛：
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设备用途
本设备主要用于碳素制品的化学气相沉积增密处理，或以碳氢气体为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理及碳毡制品真空碳化其热处理。
设备特点
1. 双层SUS304炉体结构，中间通以冷却水，有效降低炉体表面温度，减少高温伤害，降低对环境的影响；
2. 采用先进的保温材料及隔热结构，导热系数低，保温效果好，即使在很高的温度下也能有效隔绝热量，节约能耗；
3. 能够准确控制气体流量和压力，通过特殊的导气结构和装置，大大提高产品的合格率，降低沉积时间；
4. 通过特殊的过滤装置，使其热解过程的碳粉几乎完全过滤，不进入真空机组，大大延长了真空机组的使用寿命；
5. 人性化配置，既可以手动操作，也可以实现一键智能操作；
6. 型式多样化，立式上开门、立式底升式、卧式侧开门，任意选择；
7. 本产品接受非标定制。
设备参数
型号 | 工作区尺寸 | **温度 | 温度均匀性 | 冷态极限真空度 | 压升率 | 加热功率 |
HVCVD-2030 | Φ200×300 | 1500 | ±5 | 50 | 3 | 25 |
HVCVD-2540 | Φ250×400 | 1500 | ±5 | 50 | 3 | 40 |
HVCVD-3050 | Φ300×500 | 1500 | ±5 | 50 | 3 | 55 |
注：以上技术参数可根据工艺进行调整，不作为验收依据，具体以技术方案和协议为准。 | ||||||
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